トップ > ニッケル電気めっき皮膜の膜厚および膜面方向の強度測定に成功 10/26-2012
「ニッケル電気めっき皮膜の膜厚および膜面方向の強度測定に成功」
本研究室修士課程2年の今村洋仁君、博士課程2年の名越貴志君らは、繊維集合組織を有する
ニッケル電気皮膜を作成し、集束イオンビームによりそのめっき皮膜から集合組織の長軸方向
(膜厚方向)及び短軸方向(膜面方向)に合わせたマイクロカンチレバー試験片を作成することに
成功しました。
このマイクロカンチレバーの曲げ試験を、本研究室で開発された微小材料試験機により行った結果、
ニッケル電気めっき皮膜の膜厚および膜面方向の強度が大きく異なっていることを確認しました。
(Microelectronic Engineering, 97C (2012) 126-129)
めっき皮膜の膜厚および膜面方向の強度をそれぞれ独立で測定した研究は現在まで報告例がなく、
材料工学の観点から大きな成果と言えます。
図 繊維状集合組織を有するNiフィルムの断面SEM像(左)およびそこから切り出したマイクロサイズのカンチレバー試験片とその降伏強度(右)